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常用工作介质远红外激光器25~1000μm自由电子激光器中红外激光器2.5~25μmCO分子气体激光器(5~6μm)近红外激光器750nm~2500nm掺钕固体激光器(2064nm)、砷化钙(CaAs)半导体激光器(800nm)可见光激光器400nm~700nm氦氖(632.8nm)、氩离子(488nm)、红宝石(694.3nm)、等近紫外激光器200nm~400nm氟化氙(XeF)、氟化氪(Krf)、氮(N)分子激光器真空紫外激光器50nm~200nm氙(Xe)、氢(H)分子激光器X射线激光器0.01~50nm目前多处于探索阶段除了激励源和激光工作介质之外还需要能使激发光放大的光学谐振腔，如 ...
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