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成像型穆勒矩阵测量系统
经完成，表明穆勒矩阵的J性分解决定了器件的J化特性。校准过程将液晶 SLM 的相位响应确定为某个控制参数的函数，例如，施加到设备每个像素的电压信号。 输出相位值和输入信号之间的关系，例如显示图像中包含的 256 个灰度级，就是所谓的校准曲线/函数。 在光学系统中执行 SLM 的之前，校准过程是一项强制性任务。 现在，已经报道了几种校准方法。 一般来说，它们可以分为两大类。 其中之一是干涉方法，而另一方面，我们可以找到基于衍射的方法。 然而，还有一组校准方法不能包含在上述组中，但不那么普遍。第①组包括但不限于杨氏条纹衍生相位表征方法等方法。在这种情况下，干涉图案是通过在 SLM 平面上使用具有两 ...
度)的样品的穆勒矩阵为:利用穆勒微积分，我们推导出探测器处的信号为:公式1当用贝塞尔函数表示PEM的时变延迟∆t = Acos(2πft)时，我们将探测器信号重写为:公式2其中A = PEM峰值延迟弧度，f = PEM频率，和是PEM峰值延迟A。方括号中的前两项是“直流”项，第三项是“交流”项，在2f处，是PEM频率的两倍。或DC项由下方程给出：公式3，交流信号在2f处的幅值(不是均方根值)由下方程给出：公式4对于较佳设置，PEM延迟被选择为A = 0.383波= 2.405弧度。对于这种延迟，，直流项与光学旋转无关。在实验上，信号调节器从检测器输出中分离出交流信号和直流信号。锁相放大器测量的 ...
实验室使用了穆勒矩阵激光旋光计，Hinds使用了exicor系统。介绍了测量技术，并给出了测量结果。简介及背景石英和蓝宝石是单轴晶体，当晶体定向时，使光束经历非凡和普通的指数，就可以很容易地观察到这些材料的双折射。如果晶体的光轴与光学系统的轴对齐，则不会观察到本征双折射。然而，如果这两个轴没有对齐，一个起源于这两个轴之间的角度的双折射将被观察到。得到了石英和蓝宝石的平板，经过切割和抛光，使晶体光轴从平板的法线向表面倾斜。由x射线衍射测量建立的倾斜角度很小，从表1可以明显看出。表1石英和蓝宝石样品轴倾斜和双折射通常入射到板上的光所经历的双折射为其中（ne-n0）为本征双折射，θ为倾斜角。表1显示 ...
之间的关系由穆勒矩阵和斯托克斯矢出：上式，S，表示出射光束，S表示入射光束，经过这么一个矩阵推导运算，zui终就可以得到出射光S，,然后分析其光强，就可以知道与双折射有关的延迟信息。（2）塞纳蒙法双折射测量包括样品应力分布测量，可以通过跟踪样品偏振态来测量，也可以通过样品入射光束的偏振态来测量，或者预先设定偏振态来测量。它还可测样品与入射光方向的对准或者测量延迟量和方位角。塞纳蒙(Senarmont)法是一种传统的应力分布测量方法。其优点是经济，容易调准，即使使用低质量的波片也有很高的精度。下面是其光路图：2.2塞纳蒙法测量偏振器件之间的关系由穆勒矩阵和斯托克斯矢量给出，类似上面。zui终分析 ...
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