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光刻膠測量概述

發布時間:2024-08-23 11:06:51 瀏覽量:882 作者:Alex

摘要

光刻膠有許多用途。光刻膠(PR)的類型、厚度及其所沉積的基材可以不同。在大多數情況下,有必要測量PR的厚度來控製工藝。MProbe™ Vis反射計(波長範圍400nm-1000nm,厚度範圍:10nm-50μm)可成功用於(yu) 此測量。通常,使用長通濾光片(LP500)限製照明波長範圍,以避免PR曝光。zui終波長範圍(使用LP500濾波器):500-1000nm。

正文


光刻膠測量概述


MProbe™ Vis MSP用於(yu) 小點測量。


在本文中,我們(men) 將討論PR的幾種不同国产成人在线观看免费网站:

1.玻璃基板上的薄PR(主CD/DVD国产成人在线观看免费网站)

2.藍寶石晶圓上薄PMMA

3.矽上PR(微斑)

4.矽片上PR(毯式矽片)

5.銅板PR(印製板)


一、玻璃基板上的薄PR


此国产成人在线观看免费网站程序用於(yu) 主CD/DVD和其他重新編碼国产成人在线观看免费网站程序。用MicropositS1800係列(Shipley)自旋塗覆玻璃盤。PR的柯西係數由廠家提供。而PR在隨厚度直接測量的500nm~600nm範圍內(nei) 吸收較小。PR的光學常數采用CauchyK模型表示,其中僅(jin) 測量吸收(k)部分,而n係數是固定的。


圖1 PR的光學常數,k為(wei) 實測,n由廠家提供。


圖2 PR測量結果。測量參數為(wei) 厚度(118nm)和吸收(見圖1)。


二、矽晶上的PMMA


將PMMA950(MicroChem)自旋塗覆在矽片上。PMMA材料的光學色散(柯西係數)由製造商提供。用MProbeVis測量塗層的厚度。


圖3 PMMA的測量:測量數據與(yu) 模型。厚度:143.2nm


三、矽上光刻膠


利用MProbeMSPVis係統(使用20μm的測點)測量PR。PR的折射率尚不清楚。PR的光學常數用CauchyK近似表示----n和k隨厚度一起測量


圖4 矽片上的光刻膠點(15×15um)


圖5測量結果:模型與(yu) 實測數據的擬合。厚度:3341nm


圖6 測量光刻膠的n和k


四、藍寶石晶圓上的光刻膠。


為(wei) 了準確地確定PR的R.I.離散度,我們(men) 首先使用直接曲線擬合並測量以下參數:


1.PR的厚度


2.PR的R.I.色散。直接測量的參數是柯西係數,因為(wei) 色散是用柯西近似表示的。


3.表麵粗糙度校正和比例尺。這些參數校正了到樣品的距離和殘餘(yu) 的背麵反射/散射的變化

一旦膜疊確定-我們(men) 可以使用FFT進行測量,使其在生產(chan) 環境中非常容易和可靠,


圖7 藍寶石上的PR。測量參數:厚度,R.I.的PR(柯西係數),表麵粗糙度和尺度。


圖8 調整粗糙度和比例尺參數


圖9光刻膠R.I.色散(測量柯西係數)


圖10 藍寶石上的光刻膠。厚度是用曲線擬合的FFT(膜疊)確定的,圖7使用)


五、銅上的光刻膠(印製板)


光刻膠沉積在印製板(銅)上,使用MProbeVisHR係統(700-1000nm)進行測量。PR的折射率n≈1.6。


銅表麵有致密的黑色圖案,並被打結,這產(chan) 生了相當數量的散射。因此,我們(men) 使用了厚膜算法(FFT)來確定厚度。


圖11 測量的反射光譜(放大部分如圖所示)。反射率約0.3%的振蕩/條紋表明存在PR。由於(yu) 散射,振幅很小。


圖12 印製板上PR的測量。峰表示PR的厚度(45.54um),盡管光譜中的特征很弱,但峰十分清晰。


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