膜厚測量原理（三）-通過光譜反射確定薄膜特性

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膜厚測量原理（三）-通過光譜反射確定薄膜特性

薄膜反射率的振幅和周期取決(jue) 於(yu) 薄膜厚度，光學常數，和界麵粗糙度等其它特性。在多於(yu) 一個(ge) 界麵的情況下，薄膜的光學特性不可能以解析解的形式來算出來，也不可能在每個(ge) 波長下描述n和k值。實際国产成人在线观看免费网站中，一定波長範圍內(nei) 的n和k由數學模型根據幾個(ge) 可調節參數模擬得出。薄膜特性通過計算厚度實驗值及n與(yu) k模型參數的反射光譜來確定，不斷調整這些數據，直到計算反射率和測量反射率相匹配。

n和K的建模

有許多數學模型描述波長的函數n和k。為(wei) 某種薄膜選擇模型時，在準確描述相關(guan) 波長範圍n和k的情況下，變量越少越好。一般來講，不同材料（如：電介質，半導體(ti) ，金屬和非金屬）的光學常數隨波長有很大的不同，需要不同的模型來描述。電介質 (K=0）模型通常有三個(ge) 變量，而非電介質有五個(ge) 或更多的變量。下麵的例子，是兩(liang) 層薄膜結構的模型，共考慮了18個(ge) 可變量。

柯西： 

擬合參數：A,B,C（共3個(ge) ）

無定形半導體(ti) ：

擬合參數：（共5，9或13個(ge) ）

晶狀半導體(ti) ：

擬合參數：（共4，7或10個(ge) ）

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