膜厚測量原理（四）-膜厚測量的方法

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膜厚測量原理（四）-膜厚測量的方法

可變量的個(ge) 數，光譜反射法的局限

光譜反射法可以測量多種類型薄膜的厚度，粗糙度和光學常數。但是，如果隻有不到一個(ge) 周期的反射率振蕩（如：薄膜太薄），那麽(me) 就不會(hui) 產(chan) 生足夠的信息來確定模型的可變量。這樣，對於(yu) 非常薄的薄膜，可確定的薄膜特性的數量就會(hui) 減少。如果試圖解決(jue) 太多的變量，不可能找到唯①的解答；這種情況下待求變量的多種組合都可能使得反射率計算值與(yu) 測量值匹配。

取決(jue) 於(yu) 薄膜和測量的波長範圍，光譜反射法測量的單層薄膜的較小厚度為(wei) 1納米到30納米。如果還要測量光學常數，除非使用較少變量模型，可測較小厚度增加為(wei) 10納米到200納米。如果測量超過一層的薄膜的光學特性，較小厚度將進一步增加。

光譜反射法與(yu) 橢圓偏光法

基於(yu) 上麵列出的限製條件，光譜反射法能測量絕大部分的重要薄膜。但是，當薄膜太薄，層數太多，用光譜反射法測量太複雜時，可以用一般情況下更有效的方法 -- 光譜橢圓偏光法，來測量。

該方法是測量斜射光 （通常比垂直入射偏離750) 的反射光譜。橢圓偏光法對非常薄的薄膜更敏感，兩(liang) 種不同的偏振測量提供雙倍信息用於(yu) 分析。此外，橢圓偏光法可進行多種不同入射角度的反射光譜測量，因而產(chan) 生更多分析信息。

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