免費測試！AUT-Nanobase拉曼光譜成像/光電流成像/熒光壽命成像測試服務共聚焦拉曼成像係統AUT- XperRAM C 共聚焦原位拉曼成像係統AUT- XperRAM IS共聚焦低波數拉曼成像係統AUT-XperRam LW共聚焦拉曼成像係統AUT- XperRAM S共聚焦拉曼成像係統 AUT-XperRAM RF掃描光電流顯微鏡AUT-phocuscan手持式拉曼（熒光）光譜儀(yi) 超高速顯微拉曼成像光譜儀(yi) 光電流成像係統AUT-XperRam P-Scan無掩膜智能投影光電流係統AUT-XperP-Projector滑動式二硫化鉬CVD製備設備石墨烯CVD製備設備mobilesRam手持拉曼光譜儀(yi) i-Raman便攜式拉曼光譜儀(yi) Wasatch便攜式拉曼光譜儀(yi)
滑動式二硫化鉬CVD製備設備
一、 滑動式二硫化鉬CVD製備設備概述
硫粉預熱器采用管內(nei) 測控溫以保證在250℃以下，穩定控製硫蒸汽的蒸發時機和蒸發溫度。真空機組裝有真空粉塵過濾器以保護機械式真空泵不被硫粉塵損壞。采用耐腐蝕電阻電容複合真空計（在1000Pa以上測量不受氣體(ti) 種類影響，耐硫蒸氣腐蝕），通過調節真空蝶閥的開啟程度調節爐管內(nei) 壓力穩定，在1200℃以下的工藝溫度穩定氣相沉積二硫化鉬等二維化合物材料。
二、 滑動式二硫化鉬CVD製備設備設備組成
HCVD-1200S雙溫區管式爐，HTF400C硫粉預熱器(雙溫區管式爐與(yu) 預熱器可滑動)，質量流量計供氣係統，機械式真空泵等組成。
三、 滑動式二硫化鉬CVD製備設備主要技術參數
硫粉預熱器
型號：HTF-400C
工作溫度：350℃
MAX溫度：400℃
MAX升溫速率：30℃/min
推薦升溫速率：10℃/min
控溫方式：智能化30段可編程控製
工作電壓：AC220 V額定功率：800W
控溫精度：±1℃
加熱元件：電阻絲(si)
雙溫區硫化爐
型號：HCVD-1200S
技術參數：額定功率(KW):3
額定電壓(V):AC220v 50/60 Hz
MAX溫度(℃):1200（1 hour）
持續工作溫度(℃）：1100
升溫速率（℃/min）：≤50
爐管尺寸（mm）：高純石英管Φ50×1500mm
加熱區長度（mm）：440mm
恒溫區長度（mm）:200mm
控溫方式:模糊PID控製和自整定調節，智能化30段可編程控製，具有超溫和斷偶報警功能
控溫精度(℃):±1
加熱元件:電阻絲(si)
供氣係統GMF3Z
質量流量計重量：35Kg
外形尺寸：600x600x650mm
連接頭類型：雙卡套不鏽鋼接頭
標準量程（N2標定)：50sccm、200sccm、500sccm； （可根據用戶要求定製）
準確度：±1.5%線性：±0.5～1.5%重複精度：±0.2%
響應時間：氣特性：1～4 Sec，電特性：10 Sec
工作壓差範圍：0.1～0.5 MPa MAX壓力：3MPa
接口：Φ6,1/4''
顯示：4位數字顯示
工作環境溫度:5~45℃
內(nei) 外雙拋不鏽鋼管：Φ6
壓力真空表：－0.1～0.15 MPa, 0.01 MPa/格
截止閥：Φ6
低真空機組VAU-02
技術參數：
空氣相對濕度≤85%
工作電電壓：220V±10% 50~60HZ
功率：1千瓦
抽氣速率：4L\s
極限真空：4X10-2Pa
實驗真空度：1.0X10-1Pa
容油量：1.1L
進氣口口徑：KF25
排氣口口徑：KF25
轉速：1450rpm
噪音：50dB
外型尺寸:450×180×240mm
配真空粉塵過濾器，DN25手動蝶閥用於(yu) 控製爐管內(nei) 壓力，INFICON PCG554複合真空計
国产欧美在线標簽：二維材料, 二硫化鉬，CVD, 光電器件, 石墨烯, 材料製備
