免費測試！AUT-Nanobase拉曼光譜成像/光電流成像/熒光壽命成像測試服務共聚焦拉曼成像係統AUT- XperRAM C 共聚焦原位拉曼成像係統AUT- XperRAM IS共聚焦低波數拉曼成像係統AUT-XperRam LW共聚焦拉曼成像係統AUT- XperRAM S共聚焦拉曼成像係統 AUT-XperRAM RF掃描光電流顯微鏡AUT-phocuscan手持式拉曼（熒光）光譜儀(yi) 超高速顯微拉曼成像光譜儀(yi) 光電流成像係統AUT-XperRam P-Scan無掩膜智能投影光電流係統AUT-XperP-Projector滑動式二硫化鉬CVD製備設備石墨烯CVD製備設備mobilesRam手持拉曼光譜儀(yi) i-Raman便攜式拉曼光譜儀(yi) Wasatch便攜式拉曼光譜儀(yi)
石墨烯CVD製備設備
這款配置的低真空CVD係統由1200℃真空管式爐,3通道氣路係統和真空係統組成,可根據用戶需要設計生產(chan) 有雙溫區、三溫區、多溫區),石墨烯CVD製備設備可預抽真空(有高真空、低真空),通多種氣氛(供氣係統有質子流量控製器和浮子流量控製器〕。真空泵、閥均釆用進口設備,性能可靠。控製電躋選用模糊PD程控技術,石墨烯CVD製備設備具有控溫精度髙,溫衝(chong) 幅度小,性能可靠,簡單易操作等特點。CVD生長係統適用於(yu) CVD工藝,如碳化矽鍍膜、陶片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結等。
石墨烯CVD製備設備技術參數:
1200雙溫區加熱爐
電壓 AC220V 50/60Hz
功率 4.5KW 雙溫控
Max溫度 1150 °C
工作溫度 ≤ 1100 °C
升溫速率 ≤ 15°C/min
溫控係統 PID自動控製晶閘管（可控矽）輸出功率，30段可編程控製器
恒溫精度 ±1°C
石英管 25/50/60/80*1400mm
三路質量流量控製係統
MAX電壓 185~245V/50Hz
MAX輸出功率 18W
流量計標準量程 50，100，200，500SCCM（非特殊指定以氮氣標定，量程可選定）
工作溫度 5~45 °C
工作壓差 0.1~0.5 MPa
MAX壓力 3MPa
準確度 ±1.5%FS
低真空係統
采用雙極旋片真空泵
不鏽鋼充油真空壓力表，良好的抗震性
安裝過濾器
內(nei) 置測溫係統
測溫元件可從(cong) 加熱區邊緣延申至溫區中心法蘭(lan) 密封，保證爐管的密封性測溫元件，N型熱電偶
法蘭(lan) 及支撐
304不鏽鋼快速水冷法蘭(lan) ，長期水冷無腐蝕，一個(ge) 卡箍就能完成法蘭(lan) 的連接，放取物料方便快捷可調節法蘭(lan) 的支撐，平衡爐管的受力支撐。包含進氣，出氣，真空抽口針閥，KF密封圈及卡箍組合，4個(ge) 密封矽膠圈等。
石墨烯CVD製備設備可選配件
混氣係統，中，高真空係統，各種剛玉坩堝，石英管，計算機控製軟件，無紙記錄儀(yi) ，氧含量分析儀(yi) ，冷卻水循環機。
国产欧美在线標簽：石墨烯, 二維材料, 光電器件, 材料製備, 二硫化鉬
