德國Interherence高端顯微鏡專(zhuan) 用樣品溫度控製器，兼容各種顯微鏡，溫度穩定性
， Z高溫度100和
可選，動態溫度控製、4種加熱模式、
加熱速度。溫度變化不影響顯微鏡成像質量。免費試用！
超小巧、可實現快速溫度控製的顯微鏡樣品溫度控製器
VAHEAT是一款顯微鏡專(zhuan) 用精密溫度控製單元，適配於(yu) 各種顯微鏡，集加熱與(yu) 溫度傳(chuan) 感於(yu) 一體(ti) ，可對樣品區域內(nei) 進行快速且精確地溫度控製。VAHEAT Z高溫度100和
可選，可實現動態溫度控製、4種加熱模式、Z高
加熱速度，在加熱過程中保持很高溫度精度的同時，不會(hui) 顯微鏡成像質量產(chan) 生影響，廣泛国产成人在线观看免费网站於(yu) 生命科學和材料研究中對溫度敏感的過程相關(guan) 研究。
一、VAHEAT實物圖展示
圖1：VAHEAT實物圖
圖2：a）VAHEAT各部件名稱。（b)帶有液體(ti) 樣品容器的智能基板的版本，安裝在顯微鏡上的VAHEAT。
圖3：VEAHEAT能基板集成ITO薄膜加熱元件和溫度探頭。b)基底與(yu) 油浸物鏡接觸時受熱的熱相機圖像，顯示了FOV的均勻加熱（比例尺= 5毫米）。
二、VAHEAT各種基底
如下圖所示，（1）標準量程基底（RT-100°C）；（2）擴展量程基底（RT-200°C）；（3）標準量程基底搭配帶凹槽培養(yang) 皿，可容納600μl的液體(ti) 樣品；（4）培養(yang) 皿蓋；（5）單通道微流控芯基底；（6）雙通道微流控芯片基底；（7）分離式儲(chu) 層基底，其中有兩(liang) 個(ge) 1.8×5mm的腔室，可以同時觀察兩(liang) 個(ge) 樣品。
三、VAHEAT主要特點
1、較高的加熱速率：
局部加熱和反饋機製結合使FOV能夠良好地被控製，快速的溫度變化。對於(yu) 熱容較小的樣品，例如薄膜，加熱速率可達到100°C/s。對於(yu) 液體(ti) 樣品，加熱速率可達到30°C/s。
2、溫度穩定性0.01℃（rms）
較長的時間測量結果，證明了VAHEAT可達到的精度，它在數小時到數天內(nei) 達到0.01°C(rms)。
3、優(you) 越的成像質量
實驗觀察100×(100×，1.46NA)和浸沒油記錄100nm綠色熒光珠的PSF。在較高的溫度下，PSF在軸向上的伸長主要是由於(yu) 浸沒油的折射率的變化引起的。d)使用VAHEAT和空氣物鏡(40×，0.4NA)，用共聚焦顯微鏡從(cong) 室溫到100°C成像珠子的PSF。在沒有浸沒介質的情況下工作時，球麵像差Z小。
4、快速且可靠（油浸係統）
VAHEAT可以讓你控製視野內(nei) 的溫度，獨立於(yu) 顯微鏡物鏡的類型或物鏡的溫度。該係統被設計為(wei) 獨立的單元，不需要對光學設置(如物鏡加熱器)進行任何額外的修改，以避免在您的視野中出現溫度下降。此外，我們(men) 的智能基板的特定設計確保了目標的性能即使在更高的溫度下也不會(hui) 改變。
5、4種加熱模式
VAHEAT設有四種加熱模式，可根據您的需要進行不同的實驗。模式快速加熱，自動補償(chang) 加熱，或定義(yi) 良好的溫度剖麵是可用的。
6、機械穩定性和設備兼容性
沒有熱漂移或振動，即使在高溫下也允許精確的單分子定位。VAHEAT與(yu) 所有商業(ye) 顯微鏡兼容。不需要進一步修改您的設置。它的快速熱響應允許幾乎瞬時熱化，較大地減少了傳(chuan) 統加熱係統的等待時間。
四、VAHEAT兼容各種成像技術/顯微鏡：
全內(nei) 反射顯微鏡 total internal reflection microscopy (TIRM)
原子力顯微鏡 Atomic force microscopy (AFM)
共聚焦顯微鏡 Confocal microscopy
超分辨顯微鏡 Super resolution methods (SIM, STORM, PALM, PAINT, STED)
幹涉散射顯微鏡 Interferometric scattering microscopy (iSCAT)
寬場顯微鏡 Widefield microscopy
五、VAHEAT客戶反饋：
相關(guan) 文獻：
https://www.weilancj.com/jishu-630.html
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德國Interherence国产黄色在线观看擁有量子和生物光子學領域的專(zhuan) 家團隊，為(wei) 高靈敏度光學顯微鏡的發展做出了很大貢獻。該團隊采用了現代納米製造和薄膜技術，推出了VAHEAT生物顯微溫度控製器，作為(wei) 傳(chuan) 統顯微鏡的附加国产欧美在线，首次實現了在擴展溫度範圍內(nei) 的精確溫度控製，以確保生物物理光學研究可靠的測量條件。
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