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单晶铁石榴石YIG球体和立方体
单晶钇铁石榴石YIG薄膜
1240-1330nm适用于硅光子学的量子点激光器
PLZT超高速光开关
A充当CVD外延生长的成核中心,并有助于在这两种基底上获得相对较大的二维MoS2。但是图2b,e所示的MoS2结晶性不好,因为没有观察到明显的层状结构和规则形状。如上图是O2等离子体处理的SiO2/Si,Si,O2等离子体激活了基底表面上的原子,正如图2c所示,在SiO2 / Si上生长的MoS2表现出更加无序的结构。如图f所示,Si基底尺寸小,在O2等离子体清洗后,二维MoS2结晶良好。光学性能如上图是生长在不同衬底上的MoS2和WS2的WS2的 PL光谱。可以看出长在Si基底上的二维材料的PL信号都很弱,可能是因为Si本身是半导体,MoS2 / WS2中的电子一旦被激发就更容易逃逸,并且不 ...
器的线宽受到外延层数量的限制,这些外延层可以在不降低质量的情况下沉积,因此,目前只能窄到几纳米。图3反射型的VBG,即BragGrate™带通滤波器(BPF),可将频谱噪声降低至-60-70分贝,如图4所示。BPF并不是一个真正的带通滤波器,因为它反射信号而不是传输信号;然而它把有用的信号从噪声中分离出来,清理激光线。BPF的典型衍射效率约为95%,相应地,有用信号的损失约为5%。图4的左面板显示了在拉曼系统中如何使用BPF的示例。标准BPF的偏转角在20°左右。可以制作偏转角高达90°的滤光片,但这种滤光片的角度接受度将会变窄,这通常是不可取的,因为有更严格的对准要求。图4基于VBG的净化滤 ...
气体源分子束外延(GSMBE)在n-InP基板上生长我们的结构。GSMBE反应器专门用于QCL的生长。反应器定期维护,以确保始终如一的高材料质量。对每个生长进行生长后表征,以确定设计参数和监测生长条件。利用扫描电子显微镜和高分辨X射线衍射仪对薄膜的厚度和组成进行了表征。实验和模拟(X ' Pert外延)激光芯X射线衍射曲线如图2所示。这两条曲线具有很好的一致性,确定了材料的组成。在X射线中,低背景和高阶超晶格的尖峰表明,超晶格中应变的增加伴随着尖锐的界面,卫星峰的半大全宽(FWHM)小为21.2弧秒。图2. 30级激光芯的实验和模拟x射线衍射曲线在过去的几年里,人们进行了一系列的实验来 ...
机。5、气相外延炉 5、氧化炉 6、低压化学气相淀积系统 8、等离子体增强化学气相沉积系统 9、磁控溅射台 10、化学机械研磨机 11、引线键合机 12、探针测试台 等等。第二步:规格设定。造多大?有什么规范吗?比如无线网卡的芯片就需要符合 IEEE802.11 等规范,不然,这芯片将无法和市面上的国产欧美在线相容。好比你造的乐高零件,凸口太大太小,没办法和别的厂商的乐高零件拼在一起一样。然后就是决定有几间卧室、卫生间这样的事。我们的IC芯片计划性能怎么样?需要“入厕应急”功能强大,就要分配点厕所单元,相应的也要多配置点“马桶”。每个卫生间的马桶放在哪也要布局,厕所门位置、对应房间内的走廊,就是芯片里 ...
导拉曼散射的外延线照明,使用一个线形焦点,以能够比较贝塞尔和传统外延线照明模式之间的成像特性。使用图1(a)中的倒立镜可以切换两种成像模式。贝塞尔照明的偏振方向设置为x方向,使探测物镜能够有效地收集诱导拉曼散射。分光光度计的狭缝宽度设为1 Airy单位,使狭缝共聚焦效应也可实现z向的空间分辨率。光学装置的细节如图1所示。图一该显微镜的有效点扩散函数(PSF)是光学照明点扩散函数和检测点扩散函数的乘积。如图1(b)-(e)所示,与外线照明相比,贝塞尔光束照明有效地降低了z方向PSF的延伸,表明贝塞尔照明可以提高轴向分辨率和背景消除。在贝塞尔束成像中,旁瓣可能是一个问题,但在该照明模式中,入口狭缝 ...
射,通过指示外延生长,提供了对薄膜光学质量的进一步了解。x射线衍射研究表明材料是否具有晶体织构,因为通常需要具有高度织构且易于磁化轴垂直于薄膜的材料(图2)。图1图2在这一点上,应该强调的是,传统磁光薄膜的磁性是连续的,而其他磁性薄膜,如传统磁性记录磁带中使用的磁性薄膜,由于交换耦合,形成位的磁性颗粒彼此分离。因此,传统的磁光薄膜允许更高的存储密度,在薄膜上封装更多的比特。例如,在磁光记录的黄金年代,磁光盘薄膜上的数据存储标记由由约8 nm的磁壁隔开的磁畴组成,其中标记宽度约为170 nm,典型面密度为100 Gbits/in2。磁光薄膜的另一个优点是,它们具有更好的热稳定性,传统的磁记录磁带 ...
磁各向异性的外延多层体系中的畴,通过考虑效应的对比规律和深度灵敏度。梯度效应也可以很好地国产成人在线观看免费网站于图像精细过渡和域调制。图1图1比较了Kerr效应、Voigt效应和梯度效应之间的现象差异。在不同条件下,在光学偏光显微镜下对具有两个正交磁化轴的铁硅晶体的典型畴图进行了成像,如图所示。在每种情况下,通过选择适当的入射光和通过正确设置显微镜中的偏光器,分析器和补偿器来产生对比度。克尔效应在磁化矢量上是线性的,因此图1中的四个畴相以不同的颜色显示。在V光效应中成像的相同图案只显示两种颜色,每个磁化轴一种。这种对比是独立于磁化方向,因为V光效应取决于二次磁化矢量。梯度效应对磁化强度的变化很敏感。因此,在这种 ...
4年由分子束外延(MBE)生长的QCL中首次低温激光演示后不到10年就可用于实际国产成人在线观看免费网站。这一发展的关键步骤包括2001年QC激光器的RT连续操作演示,随后,2005年使用MOCVD技术生长和制造的QC激光器的室温连续操作,这是工业III-V半导体制造的选择平台。今天,使用MBE和MOCVD技术生长和制造QC激光器。尽管多年来MBE的增长,特别是气源MBE,在已发表的z佳性能方面保持了ling先优势,特别是在MWIR中,但对于许多实际国产成人在线观看免费网站目的而言,MOCVD增长可获得的性能足够好,并且允许更灵活的制造设置,特别是在工业环境中。如上所述,第1个RT连续波QC激光器也是LWIR激光器,在300K时显示 ...
D)和分子束外延(MBE)两种方法,在低掺杂InP:S衬底上生长出具有100次重复活性注入区的应变平衡InGaAs/InAlAs激光结构。电致发光器件采用深蚀刻、直径130µm的半圆形平台,顶部触点为Ti/Pt/Au,底部触点为退火的Ge/Au/Ni/Au,并覆盖Ti/Au。将Fabry-Perot激光器制作成双沟槽深蚀刻脊波导激光器,采用380nm SiNx作为侧壁绝缘,并向下安装在复合金刚石底座上。为了进行测试,所有的台面和激光设备都安装在AlN上的直接结合铜衬底上。电致发光(EL)光谱在不同温度和脉冲电流(80kHz重复频率;脉冲宽度100-500ns),使用傅里叶变换红外(FTIR)光 ...
将器件安装在外延侧的铜散热器上。图3由于前面倾斜,采用远场测量来确定发射角。如图1(c)所示,8毫米和12毫米器件的远场测量是在低于阈值的条件下进行的,温度为~2.6 A,温度为80 K,使用液氮冷却的HgCdTe探测器。与先前报道的器件一致,两种器件的光发射在正角方向上呈现两个峰,8mm和12mm器件的半z大全宽(FWHM)分别为~15°和~ 35°。在将器件旋转到与其各自的峰值发射相对应的角度后,这些器件的光、电流和电压(LIV)特性在脉冲模式下以电流脉冲宽度进行100纳秒,重复频率5千赫。通过一对ZnSe透镜,将器件的光发射准直并聚焦到室温的HgCdTe探测器上。两种器件在不同温度下的L ...
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