橢偏成像技術的測量基於(yu) 傳(chuan) 統橢偏測量術,即用偏振光波為(wei) 探測光照射樣品,樣品對入射光波進行調製,使得反射光中載有樣品的信息。
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橢偏儀(yi) (二)-光在各向同性且均勻的界麵反射原理
橢偏成像技術的測量基於(yu) 傳(chuan) 統橢偏測量術,即用偏振光波為(wei) 探測光照射樣品,樣品對入射光波進行調製,使得反射光中載有樣品的信息。橢偏測量係統包括三個(ge) 基本部分:起偏部分、樣品部分和檢偏部分。起偏部分用於(yu) 產(chan) 生偏振態已知的橢圓偏振探測光;補償(chang) 器和起偏器相結合可以產(chan) 生任意形態的橢圓偏振,探測光傾(qing) 斜入射到樣品表麵,與(yu) 樣品相互作用使得反射光偏振態發生變化,從(cong) 而載有樣品信息;反射光經過檢偏器後變成線偏振光,通過顯微成像係統,橢偏成像在 ccd 相機等圖像傳(chuan) 感器上;攝像機采集的模擬信號通過視頻顯示器顯示,並進一步經圖像采集卡進行A/D轉換,轉變成數字圖像文件進入到計算機。通過計算機,對數字圖像文件進行分析獲得樣品的信息。
一束單色光投射在一各向同性且材質均勻的界麵上,上半部分折射率為(wei) n1,下半部分折射率為(wei) n2,光會(hui) 在界麵處發生反射和折射,如下圖所示。
示意圖 單色光在各向同性且材質均勻的界麵上的反射和折射
其中Eip、Erp和Etp分別為(wei) p光的入射、反射和折射電矢量,Eis、Ers和Ets分別為(wei) s光的入射、反射和折射電矢量,θ1和θ2為(wei) 入射角和折射角。光波電矢量可以分解為(wei) 振動方向平行於(yu) 入射麵的p光和振動方向垂直於(yu) 入射麵的s光。分別定義(yi) p光和s光的反射係數rp和rs,由麥克斯韋方程組和邊界條件,能夠推導出p光、s光的反射係數與(yu) 介質折射率、入射角和折射角的關(guan) 係,即菲涅耳反射係數。
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