樣片測量法是一種比空氣測量法更為(wei) 完善的橢偏角校準方法，它可以保證光譜型橢偏儀(yi) 橢偏角在較大範圍內(nei) 測量結果的準確可靠。
光譜型橢偏儀(yi) 的校準（四）-樣片測量法
我們(men) 之前使用的空氣測量法是使用空氣和平行平晶作為(wei) 標準，對橢偏儀(yi) 特定橢偏角的測量結果進行驗證，但是這並不能保證橢偏角在全範圍內(nei) 的量值準確可靠。基於(yu) 以上分析，有必要給出一種更為(wei) 完善的橢偏角校準方法，以保證光譜型橢偏儀(yi) 橢偏角在較大範圍內(nei) 測量結果的準確可靠，我們(men) 稱他為(wei) 樣片測量法。
根據橢偏儀(yi) 測量流程可知，首先需要測量被測樣品得到橢偏角參數，然後建立測量模型通過擬合的方式得到薄膜的厚度。對於(yu) 光譜型橢偏儀(yi) 而言，不同材料、不同薄膜厚度的樣片，對應的橢偏參數是不相同的。假定被測樣品材料固定，則橢偏角和薄膜厚度建立了對應的關(guan) 係，使用不同厚度的薄膜樣片就可以實現橢偏角的校準，測量形式如圖1所示。
圖1 模型固定的橢偏儀(yi) 測量形式
目前，矽作為(wei) 較常用的半導體(ti) 材料，在半導體(ti) 和微電子領域中占據很大的比重，因此膜厚標準樣片的襯底材料為(wei) 矽，薄膜材料為(wei) 二氧化矽。按照公式
所示的數學模型編寫(xie) Matlab算法進行仿真得到二氧化矽薄膜的厚度，通過仿真可知:使用薄膜厚度為(wei) 2nm，50nm，500nm，3個(ge) 不同厚度的膜厚標準樣片即可覆蓋橢偏角的大部分範圍，具體(ti) 的薄膜厚度和覆蓋橢偏角的範圍見表1。
| 薄膜厚度/nm |  覆蓋範圍/（°） | Δ覆蓋範圍/（°） |
| 2 | 15-40 | 120-180 |
| 50 | 10-60 | 100-220 |
| 500 | 20-80 | 90-270 |
表1 樣片覆蓋橢偏角的範圍
為(wei) 了實現橢偏角的校準，我們(men) 需要製備標稱厚度為(wei) 2nm，50nm，500nm的二氧化矽膜厚標準樣片。
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