無掩模光刻係統
uFAB-3D雙光子聚合激光直寫(xie) 光刻機是一款基於(yu) “雙光子聚合技術”的開放式三維微加工平台；我們(men) 的雙光子聚合激光直寫(xie) 光刻係統可以兼容廣泛的高分子材料，包括生物材料；幫助您在納米級分辨率下生產(chan) 空前複雜的微型部件。
SmartPrint UV無掩模光刻機係列是一款基於(yu) DMD（Digital Micromirror Device）而無需傳(chuan) 統硬掩模版來進行光刻的激光直寫(xie) 光刻機，大大提高了光刻效率，節省光刻成本及時間。桌麵式小型台式無掩模光刻機占地麵積小，用戶界麵友好，操作簡單方便。
